در خط تولید، ویفری که تازه از مرحله شستشو خارج شده است، هنوز کاملاً آماده نشده است. وجود اثرات آب، ذرات ریز و فشار حرارتی ناشی از فرآیند خشککردن نامناسب، میتواند باعث کاهش کیفیت ویفر قبل از رسیدن به مراحل بعدی شود. چالش واقعی، تنها خشک کردن ویفر نیست؛ بلکه کنترل دقیق سطح وایفر و میزان انرژی مصرفی نیز اهمیت زیادی دارد.
از نظر فنی، چه چیزی مهم است؟ ما فرآیند خشککردن را بر اساس انتقال سریع و کنترلشده انرژی انجام میدهیم. این سیستم، یکنواختی حرارتی در سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکند؛ بنابراین هیچ نقطه گرم یا سردی وجود ندارد که بتواند باعث تغییرات در خواص فوتورزیست یا ایجاد فشار بر سطح ویفر شود. هیترها از امواج مادون قرمز کوتاهاموج و متوسطاموج استفاده میکنند؛ همچنین از قطعات کوارتز و الیاف کربنی برای افزایش سرعت خشککردن و حفظ یکنواختی حرارتی استفاده میشود. این امر باعث میشود که در طول فرآیند خشککردن، هیچ ذرهای تولید نشود؛ که این موضوع برای حفظ استانداردهای سالنهای پاکسازی درجه ۱ تا ۱۰۰ ضروری است. در نتیجه، میتوانید زاویه تماس سطح ویفر را به طور قابل پیشبینی کنید و سطح ویفر کاملاً بدون لکه باشد.
چرا این روش مناسب است؟ پس از شستشو، ویفر باید بدون هیچ آلودگیای وارد مرحله لیتوگرافی یا خشککردن فوتورزیست شود؛ همچنین نباید دارای تاریخچه حرارتی باشد که بتواند بر خواص ویفر تأثیر بگذارد. روش خشککردن ما، مستقیماً در مسیر لیتوگرافی یا در یک ماژول جداگانه اعمال میشود؛ این امر باعث میشود که فرآیند خشککردن به طور دقیق و قابل پیشبینی انجام شود. شما میتوانید زمانهای فرآیند را پیشبینی کنید، مقدار کمتری از ویفرهای خراب به دلیل اثرات آب و ذرات تولید شود، و عملکرد سیستم پایدار باشد. همچنین، به دلیل کنترل سریع و دقیق دما، میزان انرژی مصرفی نیز کم میشود؛ بدون اینکه سرعت تولید کاهش یابد.
جزئیات عملی: هنگام نصب، باید جریان گاز و خروجی گاز از محفظه را با توان هیتر هماهنگ کنید؛ تا میزان دما در شرایط بارگذاری نیز ثابت بماند. رابطهای اتصال این سیستم مطابق استانداردهای SEMI هستند؛ اما همچنان باید جرم حرارتی سطح ویفر را نیز با پروفایل حرارتی سیستم هماهنگ کنید تا از اختلالات در فرآیند خشککردن جلوگیری شود. برای تنظیم سرعت خشککردن و زمان لازم برای آن، نیاز به یک تست کوتاه دارید.