Mengapa Pemanasan IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas, Apabila Setiap Saat Sangat Penting
Jika anda masih bergantung pada penggunaan udara panas untuk memanaskan wafer, anda sebenarnya sedang membuang masa. Fikirkan bagaimana cara kerja udara panas: udara dipanaskan terlebih dahulu, kemudian tunggu sehingga udara tersebut dapat memanaskan wafer. Proses ini sangat lambat. Pemanasan IR pula mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara panas tersebut. Energi dihantar terus ke permukaan silikon menggunakan radiasi elektromagnetik. Tiada masa menunggu, tiada masalah tambahan.
Faktor utama yang perlu diberi perhatian ialah kos masa.
Dalam proses pemprosesan yang kompleks, masa merupakan faktor yang sangat penting. Dengan penggunaan udara panas, kita perlu menunggu seluruh bilik pemprosesan menjadi panas sepenuhnya, dan yang lebih buruk lagi, perlu menunggu sehingga suhu turun semula. Ini merupakan proses yang sangat memakan masa.
Lampu IR pula berbeza. Ia dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja. Dalam proses Rapid Thermal Processing (RTP), beberapa saat ini sangat penting. Apabila suis dimatikan, haba akan berhenti dengan segera. Anda tidak perlu berhadapan dengan udara panas yang sukar untuk disejukkan.
Selain itu, ada juga masalah “titik sejuk” pada permukaan wafer.
Kita semua pernah menghadapi masalah ini. Permukaan wafer berukuran 300mm mungkin tidak mencapai suhu yang diinginkan di bahagian tepinya. Konveksi udara menyebabkan ketidaksamaan suhu pada permukaan wafer.
Kita boleh atasi masalah ini dengan menggunakan sensor IR untuk memantau suhu permukaan secara masa nyata. Ini membolehkan kita mengawal suhu di kawasan tertentu. Jika bahagian tepi wafer masih sejuk, kita hanya perlu meningkatkan kuasa lampu tersebut. Cara ini lebih efektif. Selain itu, ia juga membantu mencegah wafer daripada bengkok, serta memastikan profil doping tetap tepat seperti yang diinginkan.
Namun, ia bukanlah penyelesaian yang sempurna. Ada juga kelemahannya.
Pemanasan IR memberikan kuasa yang sangat tinggi, jadi sumber tenaga yang digunakan akan tertekan. Anda juga perlu berhati-hati semasa menetapkan tetapan PID. Jika sensor tidak berfungsi dengan betul, suhu wafer akan melebihi had yang ditetapkan, dan akibatnya keseluruhan proses pemprosesan akan gagal. Ini merupakan situasi yang sangat menegangkan jika kita tidak mempercayai ketepatan kalibrasi sensor tersebut.
Selain itu, perlu juga memerhatikan keadaan lampu tersebut. Apabila filamen lampu semakin usang, suhu yang dihasilkan akan berubah. Anda tidak boleh sekadar “menetapkan tetapan dan lupa tentangnya”. Anda perlu mempunyai jadual penggantian lampu yang tetap agar kualiti produk tetap terjamin.