PECVD Heizeinheit mit Infrarotstrahler

Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800

Im Produktionsbereich ist die thermische Verdrift während des Trocknens der Wafer oder beim Erhitzen des Photoresists nicht nur ein Problem für die Produktivität – sie verändert außerdem die kritischen Abmessungen der Wafer und verringert somit die Ausbeute. Es wird daher eine Heizung benötigt, die schnell reagiert, konstant bleibt und gleichzeitig sauber arbeitet – Schicht für Schicht.

Unsere PECVD-Heizelemente nutzen kurzwellige Energie, um eine schnelle thermische Reaktion zu erzielen. Dadurch wird eine Homogenität auf Waferebene von ±0,1°C während des gesamten Prozesses gewährleistet. Quarzkörper sowie speziell entwickelte Fäden sorgen dafür, dass keine Partikel entstehen – somit bleibt die Umgebung in einer Reinraumklasse 1–100. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil, mit weniger als 5% Intensitätsverlust – dadurch bleibt das thermische Verhalten wiederholbar. Das System lässt sich einfach in bestehende PECVD- und thermische Prozessmodule integrieren. Es gibt standardmäßige Spannungsoptionen, und die kompakte Bauweise stört nicht die Anordnung der Geräte.

Emitter on Master Infrared Heating Systems

PECVD Heizeinheit mit Infrarotstrahler