Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée

Sun, 21 Jun 2026 06:49:38 +0800

Sur le sol de production, les variations thermiques constituent des facteurs qui nuisent à la qualité du produit, sans pour autant être toujours visibles. Une variation de 0,5 °C pendant le séchage du photorésistant peut provoquer des déplacements des disques optiques. Si de l’humidité reste après le nettoyage, cela peut entraîner des problèmes liés aux microbrins. Lors du conditionnement, des écarts dans le processus de durcissement peuvent provoquer des déformations et compromettre la fiabilité du produit. Il est donc nécessaire d’avoir une chaleur stable, contrôlée par l’atmosphère présente dans la chambre de traitement.

Chauffage à semi conducteur contrôlé par PID

Mon, 01 Jun 2026 02:50:12 +0800

Sur la ligne, la température n’est pas un réglage de fond—elle pilote le procédé. Un écart de quelques degrés lors du soft bake du photoresist peut faire dériver vos cibles de dimension critique (CD). Une zone froide pendant le séchage des wafers peut laisser une marque d’eau qui résiste au spin, au bake et à l’etch. Quand le comportement thermique déraille, vous n’avez pas un avertissement préalable. Vous obtenez des rebuts, des retouches et un arrêt imprévu qui se répercute dans la fab.
Nous avons conçu nos chauffages semi-conducteurs contrôlés par PID précisément pour ces moments-là—quand le procédé exige une chaleur répétable, rapide et propre, avec un contrôle qui tient sur les postes, les lots et les équipements.

Contrôlé on Master Infrared Heating Systems

Lampe de cuisson en atmosphère contrôlée

Chauffage à semi conducteur contrôlé par PID