Émetteur infrarouge de chauffage PECVD

Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800

Sur le plan de fabrication, les déviations thermiques pendant le séchage des wafers ou lors du traitement par photorésiste ne représentent pas seulement un obstacle au rythme de production. Elles entraînent également des changements dans les dimensions critiques des composants, ce qui affecte négativement le taux de production. Il est donc nécessaire d’utiliser une chaleur qui agisse rapidement, de manière constante, et sans interférences, shift après shift.

Nos émetteurs à infrarouges pour PECVD utilisent de l’énergie à ondes courtes pour assurer une réponse thermique rapide, avec une uniformité à niveau de wafer de ±0,1°C tout au long du processus. Les enveloppes en quartz et les filaments spécialement conçus permettent d’éviter toute génération de particules, ce qui garantit que vous restiez dans une salle propre de classe 1–100. La puissance délivrée reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec moins de 5 % de dérive d’intensité, ce qui permet de maintenir une stabilité constante du processus thermique. Le système s’intègre facilement aux modules PECVD et de traitement thermique existants, avec des options de tension standard et un format compact qui ne perturbe pas l’aménagement de l’équipement.

PECVD on Master Infrared Heating Systems

Émetteur infrarouge de chauffage PECVD