Chauffage infrarouge pour séchage de plaquettes

Thu, 04 Jun 2026 03:55:57 +0800

Sur le plan de lithographie, la plaquette sort du dernier rinçage et le chronomètre démarre. Le séchage conventionnel laisse des traces d’eau, des films minces et des particules invisibles — jusqu’à ce qu’elles apparaissent comme défauts dans le photoresist. Dans une usine 300mm fonctionnant en propreté Classe 1, ce n’est pas un risque. C’est du rendement qui s’en va.

Ce qui compte sous le capot
Nous avons conçu le chauffage infrarouge de séchage des plaquettes autour d’un NIR à ondes courtes. Il injecte l’énergie directement dans le film d’eau, rapidement — temps de réponse inférieur à 50 ms. L’uniformité thermique sur la plaquette se maintient à ±0,1°C, évitant ainsi les points chauds/froids qui perturbent le reflow du photoresist après le soft bake et le hard bake. Les réseaux d’émetteurs sont placés derrière un quartz scellé, avec une interface à faible dégazage et sans particules, et la plateforme est compatible salle blanche jusqu’à Classe 1–100. La répétabilité est assurée par une commande en boucle fermée qui suit le point de consigne à 0,5 % près, même en fonctionnement 24/7. En déploiements multi-clusters, nous n’avons constaté aucune panne non planifiée sur 18 mois.

Plaquette on Master Infrared Heating Systems

Chauffage infrarouge pour séchage de plaquettes