Di lantai pabrik, sebuah SRD yang meninggalkan jejak air atau partikel pada wafer tidak hanya terlihat buruk—itu mengurangi hasil. Lampu infrared adalah penggerak termal dari seluruh siklus, dan itu menetapkan batas antara pengeringan yang sesuai dengan anggaran termal dan yang memberi tekanan pada film. Apa yang penting, secara teknis Kami merancang lampu infrared SRD berdasarkan jendela proses, bukan lembar spesifikasi yang mengkilap. NIR gelombang pendek memberikan peningkatan suhu yang cepat, dan kantong kuarsa plus geometri reflektor menjaga keseragaman tingkat wafer dalam kisaran ±0.1°C selama proses spin. Output tetap stabil cukup untuk melindungi integritas fotoresist setelah soft bake dan hard bake, dan beroperasi 24/7 tanpa menambah partikel—cocok untuk cleanroom Kelas 1–100. Repetabilitas bergantung pada pencapaian setpoint yang sama, siklus demi siklus, dengan penyimpangan minimal selama ribuan jam. Mengapa ini berhasil di SRD Di SRD, lampu harus menguapkan bilasan tanpa memasak substrat atau tumpukan polimer. Kontrol termal yang ketat mempersingkat fase pengeringan, menjaga kontrol dimensi kritis tetap ketat, dan mengurangi limbah. Anda mendapatkan ruang tambahan untuk throughput dan interval pemeliharaan yang dapat diprediksi, sementara penggunaan energi menurun berkat penggabungan NIR yang efisien dan respons termal yang cepat. Di jalur litografi, itu berarti lebih sedikit lot pengerjaan ulang dan sejarah termal yang konsisten, sesuai pandangan pada setiap wafer. Berikut adalah detail praktisnya Instalasi harus tepat: penyelarasan optik dengan sumbu spin dan antarmuka bersih ke ruang. Jika tidak tepat, Anda akan melihat titik panas dan pengeringan yang tidak merata. Lampu beroperasi dalam parameter tegangan dan pendingin yang ditentukan, dan geometri ruang perlu sesuai dengan profil reflektor. Rencanakan masa burn-in yang singkat, kemudian pemeriksaan output berkala untuk menjaga keseragaman ±0.1°C sepanjang siklus tugas SRD penuh.