Kwarsa on Master Infrared Heating Systems

Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Fri, 17 Jul 2026 08:06:18 +0800

Hentikan Masalah Kerusakan Lampu yang Menghambat Proses Produksi Anda
Di pabrik dengan kapasitas produksi tinggi, kerusakan lampu merupakan masalah yang sangat mengkhawatirkan. Masalahnya bukan hanya terletak pada waktu pemadaman mesin saja. Ketika selubung kuartz rusak, serpihan kaca dan zat kimia akan jatuh langsung ke permukaan wafer. Hal ini tentu akan membuat wafer menjadi tidak layak digunakan, dan membutuhkan waktu yang lama untuk membersihkan mesin tersebut.

Kami menemukan cara yang lebih baik: pasanglah pelindung berbahan kaca kuartz di antara elemen pemanas dan bahan yang diproses. Cara ini sederhana, tetapi efektif.

Lapisan kuarsa untuk lampu IR buatan pabrik

Wed, 24 Jun 2026 04:33:07 +0800

Di fasilitas produksi, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah hal yang disarankan untuk dilakukan secara sembarangan—ini merupakan proses yang membutuhkan pengontrolan suhu yang sangat ketat. Perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk mengubah dimensi kritis dari bahan tersebut. Satu partikel kecil saja bisa merusak chip yang sedang diproses. Sleeve kuarsa yang digunakan untuk lampu IR memiliki desain khusus agar dapat menjaga stabilitas output lampu, mempertahankan kebersihan ruang proses, serta memastikan proses berjalan dengan baik.

Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan kuarsa berkualitas tinggi agar energi cahaya dapat ditransmisikan dengan stabil pada gelombang pendek dan menengah. Dengan demikian, energi tersebut dapat sampai ke wafer tanpa adanya kerugian spektral. Geometri sleeve ini dirancang untuk mencapai keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, sehingga memberikan akurasi sekitar ±0,1°C selama proses pemanasan. Sleeve ini juga dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan partikel apa pun selama proses pemanasan. Antarmuka sleeve ini sesuai dengan standar housing lampu, sehingga alinhmenya tetap terjaga dan sirkulasi udara tetap efektif.

Tabung pemanas kuarsa gelombang menengah

Sat, 20 Jun 2026 06:19:22 +0800

Di area produksi, prosedurnya sudah jelas: perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk mengubah profil fotoresisten, dan hal ini dapat merusak chip yang sedang diproses. Tabung pemanas berbasis gelas kuarsa berfrekuensi gelombang menengah digunakan dalam proses ini. Kontrol suhu bukanlah sekadar pengaturan, melainkan bagian dari prosesnya sendiri.

Yang penting adalah efektivitas pemanasan
Gelas kuarsa berfrekuensi gelombang menengah memancarkan energi di rentang 2,5–4 μm. Energi ini dapat meresap ke dalam fotoresisten dan lapisan air tipis tanpa menyebabkan panas berlebih pada substrat. Dengan demikian, pemanasan berlangsung secara cepat dan terkontrol, dengan inersia termal yang rendah. Di seluruh permukaan wafer, suhu tetap stabil pada kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya juga tetap baik dari satu batch ke batch berikutnya. Desain yang cocok untuk ruang bersih membuat jumlah partikel yang terbentuk hampir nol—sesuai dengan standar lingkungan kelas 1–100. Performa pemanas tetap stabil setelah 5.000 jam penggunaan, dengan penurunan output yang minimal.