<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Lengan Baju on Master Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heating-master.com/id/tags/lengan-baju/</link>
		<description>Recent content in Lengan Baju on Master Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 04:33:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-master.com/id/tags/lengan-baju/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lapisan kuarsa untuk lampu IR buatan pabrik</title>
				<link>http://ir-heating-master.com/id/posts/quartz-sleeve-for-fab-ir-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 04:33:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-master.com/id/posts/quartz-sleeve-for-fab-ir-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-master.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lapisan kuarsa untuk lampu IR buatan pabrik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasilitas produksi, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah hal yang disarankan untuk dilakukan secara sembarangan—ini merupakan proses yang membutuhkan pengontrolan suhu yang sangat ketat. Perubahan suhu sebesar 0,5°C saja &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sudah&lt;/a&gt; cukup untuk mengubah dimensi kritis dari bahan tersebut. Satu partikel kecil saja bisa merusak chip yang sedang diproses. Sleeve kuarsa yang digunakan untuk lampu IR memiliki desain khusus agar dapat menjaga stabilitas output lampu, mempertahankan kebersihan ruang proses, serta memastikan proses berjalan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;dengan&lt;/a&gt; baik.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting secara teknis:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan kuarsa berkualitas tinggi agar energi cahaya dapat ditransmisikan dengan stabil pada gelombang pendek dan menengah. Dengan demikian, energi tersebut dapat sampai ke wafer tanpa adanya kerugian spektral. Geometri sleeve ini dirancang untuk mencapai keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, sehingga memberikan akurasi sekitar ±0,1°C selama proses pemanasan. Sleeve ini juga dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan partikel apa pun selama proses pemanasan. Antarmuka sleeve ini sesuai dengan standar housing lampu, sehingga alinhmenya tetap terjaga dan sirkulasi udara tetap efektif.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
