Lampu pemanggang dengan atmosfer terkendali

Sun, 21 Jun 2026 06:49:38 +0800

Di lingkungan pabrik, fluktuasi suhu merupakan penyebab utama penurunan kualitas produk yang sering kali tidak dapat dilihat secara langsung. Perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist dapat menyebabkan pergeseran posisi CD. Jika ada kelembapan yang tertinggal setelah proses pembersihan, hal tersebut akan menyebabkan terbentuknya struktur mikro yang merugikan kualitas produk. Dalam proses pengemasan, ketidakteraturan suhu dapat menyebabkan perubahan bentuk dan penurunan kualitas produk. Oleh karena itu, diperlukan sistem pemanasan yang memiliki kontrol suhu yang akurat, sesuai dengan kondisi atmosfer di dalam ruang produksi.

Pemanas semikonduktor yang dikendalikan oleh PID

Mon, 01 Jun 2026 02:50:13 +0800

Di lini produksi, temperatur bukan sekadar pengaturan latar belakang—ia menggerakkan proses. Selisih beberapa derajat saat photoresist soft bake dapat menggeser target dimensi kritis (CD) Anda. Titik dingin saat pengeringan wafer dapat meninggalkan bekas air yang bertahan melewati proses spin, bake, dan etch. Ketika perilaku termal meleset, Anda tidak mendapat peringatan. Yang Anda dapat adalah scrap, rework, dan penghentian tak terencana yang berdampak ke seluruh fab.
Kami merancang pemanas semikonduktor dengan kontrol PID untuk momen-momen tersebut—ketika proses membutuhkan panas yang dapat diulang dengan cepat dan bersih, dengan kendali yang stabil sepanjang shift, lot, dan peralatan.

Terkendali on Master Infrared Heating Systems

Lampu pemanggang dengan atmosfer terkendali

Pemanas semikonduktor yang dikendalikan oleh PID