Emettitore a infrarossi per riscaldamento PECVD

Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800

Nella fase di essiccazione dei wafer, la deriva termica durante il processo di cottura del fotoresist o durante l’essiccazione stessa non rappresenta soltanto un ostacolo per l’efficienza produttiva: influisce anche sulle dimensioni critiche dei componenti e riduce il tasso di qualità dei prodotti finiti. È quindi necessario un riscaldamento rapido, costante e preciso, che possa mantenere stabili le condizioni di temperatura in ogni fase del processo.

I nostri emettitori a infrarosso per il riscaldamento in PECVD utilizzano energia a onde corte per garantire una risposta termica immediata; inoltre, assicurano una uniformità della temperatura entro ±0,1°C durante tutto il processo. Gli involucri in quarzo e i filamenti progettati appositamente riducono al minimo la formazione di particelle, permettendo così di mantenere l’ambiente all’interno di una camera pulita di classe 1–100. La prestazione del sistema rimane stabile per oltre 5.000 ore, con una deriva di intensità inferiore al 5%, garantendo così un controllo preciso delle condizioni termiche. Il sistema può essere integrato facilmente nei moduli PECVD esistenti, grazie alle opzioni di tensione standard e alle dimensioni compatte che non interferiscono con la disposizione degli strumenti.

Emettitore on Master Infrared Heating Systems

Emettitore a infrarossi per riscaldamento PECVD