Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS

Mon, 13 Jul 2026 18:39:41 +0800

Pulizia dei sensori MEMS tramite radiazioni infrarosse
Se avete mai lavorato con sensori MEMS, sapete bene quanto sia complicato asciugare le wafer. Anche una piccola macchia d’acqua o un po’ di contaminazione ionica possono rendere l’intera partita di wafer inutilizzabili. Per anni abbiamo utilizzato forni a convezione, ma dobbiamo ammettere che riscaldare un intero ambiente solo per asciugare una singola wafer rappresenta uno spreco enorme di energia.

Ecco perché abbiamo optato per lampade a radiazioni infrarosse a lunghezza d’onda corta. Invece di riscaldare l’aria, queste lampade agiscono direttamente sulla superficie della wafer. È un metodo più efficiente e molto più ecologico.

MEMS on Master Infrared Heating Systems

Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS