<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>PECVD on Master Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://ir-heating-master.com/ko/tags/pecvd/</link>
		<description>Recent content in PECVD on Master Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-master.com/ko/tags/pecvd/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>PECVD 가열용 적외선 방사체</title>
				<link>http://ir-heating-master.com/ko/posts/pecvd-heating-infrared-emitter/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-master.com/ko/posts/pecvd-heating-infrared-emitter/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-master.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;PECVD 가열용 적외선 방사체&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;팹에서는 포토레지스트를 건조시키거나 웨이퍼를 말리는 과정에서 발생하는 열 변동이 단순히 생산 속도를 저하시키는 문제에 그치지 않습니다. 이러한 열 변동은 웨이퍼의 치수를 변화시키고 수율을 떨어뜨립니다. 따라서 빠르게 열을 전달하면서도 일정한 온도를 유지할 수 있는 시스템이 필요합니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
