Mengeringkan on Master Infrared Heating Systems

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Mon, 13 Jul 2026 18:39:42 +0800

Mencuci dan Mengeringkan MEMS Menggunakan Cahaya Inframerah
Jika anda pernah bekerja dengan sensor MEMS, anda pasti tahu betapa sukarunya proses pengeringan wafer tersebut. Walaupun hanya terdapat sedikit titik air atau kotoran ionik pada permukaan wafer, keseluruhan wafer tersebut akan menjadi tidak boleh digunakan lagi. Selama bertahun-tahun, kita bergantung pada ketuhar konvektif untuk mengeringkan wafer tersebut. Namun, sejujurnya, memanaskan seluruh ruang hanya untuk mengeringkan satu wafer merupakan pembaziran tenaga yang besar.

Itulah sebabnya kita beralih kepada lampu inframerah berfrekuensi rendah. Daripada memanaskan udara, cahaya inframerah digunakan untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Cara ini lebih efisien dan lebih baik untuk alam sekitar.

Bulb lampu pengering wafer yang murah

Tue, 23 Jun 2026 01:01:03 +0800

Di bahagian pengeringan wafer, tingkah laku bahan photoresist bergantung sepenuhnya pada profil suhu yang wujud—terutamanya semasa proses pengeringan lembut dan keras. Sebarang perubahan suhu sebanyak beberapa darjah, atau pemanasan yang tidak seragam di seluruh permukaan wafer, akan menyebabkan masalah seperti ketidakkonsistenan garis tepi wafer, perubahan ketebalan garis tersebut, dan penurunan kualiti wafer. Lampu tersebut bukan sekadar alat tambahan; ia merupakan komponen penting yang digunakan untuk mengawal suhu dengan tepat.

Apa yang penting ialah kualiti lampu tersebut agar dapat memenuhi keperluan proses pengeringan wafer dan pemprosesan bahan photoresist. Penggunaan lampu halogen dengan selubung kuarza membolehkan respons yang cepat dan terkawal. Gelombang pendek atau sederhana yang dihasilkan oleh lampu ini mampu memberikan tenaga yang diperlukan untuk mengekstrak pelarut tanpa menyebabkan masalah. Sasarkan tahap keseragaman suhu sekitar ±0.1°C, dan pastikan ia dapat dicapai secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Dalam bilik bersih kelas 1–100, lampu-lampu ini berfungsi dengan baik—tanpa menghasilkan sebarang zarah debu pada suhu operasi tertentu. Reka bentuk lampu ini sesuai digunakan bersama peralatan yang sudah ada: voltan 100–240 V, bentuk yang kompak, serta antaramuka sambungan yang mudah digunakan.

Pemanas inframerah pengering wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:55:57 +0800

Di lantai litografi, wafer keluar dari bilasan akhir dan jam mula berjalan. Pengeringan konvensional meninggalkan kesan air, filem nipis, dan zarah yang tidak dapat dilihat — sehingga ia muncul sebagai kecacatan dalam fotoresist. Dalam kilang 300mm yang menjalankan kebersihan Kelas 1, itu bukanlah risiko. Ia adalah hasil yang keluar dari pintu.

Apa yang penting di bawah permukaan
Kami membina pemanas inframerah pengering wafer berdasarkan NIR gelombang pendek. Ia membebaskan tenaga terus ke dalam filem air, dengan cepat — tindak balas di bawah 50ms. Keseragaman haba di seluruh wafer kekal pada ±0.1°C, jadi anda tidak mendapat titik panas/dingin yang mengganggu aliran semula fotoresist selepas pengeringan lembut dan keras. Array pemancar terletak di belakang kuarza tertutup, dengan antaramuka rendah pengeluaran gas, bebas zarah, dan platform ini serasi dengan bilik bersih hingga Kelas 1–100. Kebolehulangan datang daripada kawalan gelung tertutup yang menjejak titik tetapan dalam 0.5%, walaupun beroperasi 24/7. Dalam pelaksanaan multi-kluster, kami telah merekodkan tiada masa henti tidak dirancang selama 18 bulan.