Sensor on Master Infrared Heating Systems

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:14:43 +0800

Mengapa Pemanasan IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas, Apabila Setiap Saat Sangat Penting

Jika anda masih bergantung pada penggunaan udara panas untuk memanaskan wafer, anda sebenarnya sedang membuang masa. Fikirkan bagaimana cara kerja udara panas: udara dipanaskan terlebih dahulu, kemudian tunggu sehingga udara tersebut dapat memanaskan wafer. Proses ini sangat lambat. Pemanasan IR pula mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara panas tersebut. Energi dihantar terus ke permukaan silikon menggunakan radiasi elektromagnetik. Tiada masa menunggu, tiada masalah tambahan.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:58:13 +0800

Mengelakkan Bahaya Semasa Menggunakan Cahaya Infra Merah di Sekitar Bahan Kimia yang Mudah Terbakar
Ketika menggunakan alat pembersihan kimia untuk membersihkan wafer, kita biasanya berhadapan dengan pelarut yang sangat sensitif terhadap haba. Pelarut ini mudah terbakar, malah boleh meletup. Menggunakan lampu inframerah yang menghasilkan haba tinggi dalam persekitaran tersebut merupakan tindakan yang berisiko.

Cara yang betul bukanlah untuk menjadikan lampu tersebut lebih “selamat”, tetapi bagaimana cara melindunginya daripada haba berlebihan.

Mencegah percikan api sebelum ia berlaku
Kebanyakan lampu inframerah membiarkan terminal elektrik dan komponen kristalnya terdedah kepada udara. Dalam kawasan pembersihan, ini merupakan situasi yang berbahaya. Sebarang percikan kecil atau wap yang masuk ke dalam badan lampu sudah cukup untuk menimbulkan masalah.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Mon, 20 Jul 2026 11:42:27 +0800

Mengawal Suhu dengan Betul untuk Penderia Hidrogen

Membuat penderia hidrogen memerlukan keseimbangan yang tepat. Anda perlu bekerja dengan komponen-komponen kecil yang sangat sensitif terhadap suhu. Jika anda gagal mengawal suhu tersebut, keseluruhan produk yang dihasilkan akan menjadi tidak berguna.

Itulah sebabnya kami menggunakan sistem inframerah gelombang pendek. Apabila anda perlu memanaskan atau menyejukkan lapisan tipis atau substrat dengan cepat, IR merupakan cara yang paling efektif. Dalam sistem Smart Fab, pemanas ini memainkan peranan penting. Yang terbaik ialah haba dapat disalurkan terus ke permukaan bahan yang ingin diproses. Anda tidak perlu membazir tenaga untuk memanaskan seluruh ruang hanya untuk mencapai suhu yang sesuai bagi satu wafer sahaja.

Pembungkusan sensor pintar untuk gelombang inframerah

Thu, 16 Jul 2026 02:52:44 +0800

Berhenti teka-teki mengenai penggunaan haba: Gunakan data untuk membuat keputusan yang tepat

Jika anda sedang merancang pembinaan kilang pengeluaran yang baru, kemungkinan besar anda telah meluangkan banyak masa untuk memikirkan tentang penggunaan haba. Namun, haba sahaja tidak cukup. Anda perlu tahu apa sebenarnya yang dilakukan oleh haba tersebut.

Kebanyakan elemen pemanasan tradisional sebenarnya tidak berguna sepenuhnya. Ia hanya memasukkan tenaga ke dalam proses pengeluaran, tanpa cara untuk mengetahui sama ada suhu yang dihasilkan mencapai tahap yang diinginkan atau tidak. Kita dapat mengatasi masalah ini dengan menggunakan sistem inframerah (IR) yang dilengkapi dengan sensor pintar. Dengan cara ini, zon pemanasan biasa berubah menjadi sumber data yang berguna.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Mon, 13 Jul 2026 18:39:42 +0800

Mencuci dan Mengeringkan MEMS Menggunakan Cahaya Inframerah
Jika anda pernah bekerja dengan sensor MEMS, anda pasti tahu betapa sukarunya proses pengeringan wafer tersebut. Walaupun hanya terdapat sedikit titik air atau kotoran ionik pada permukaan wafer, keseluruhan wafer tersebut akan menjadi tidak boleh digunakan lagi. Selama bertahun-tahun, kita bergantung pada ketuhar konvektif untuk mengeringkan wafer tersebut. Namun, sejujurnya, memanaskan seluruh ruang hanya untuk mengeringkan satu wafer merupakan pembaziran tenaga yang besar.

Itulah sebabnya kita beralih kepada lampu inframerah berfrekuensi rendah. Daripada memanaskan udara, cahaya inframerah digunakan untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Cara ini lebih efisien dan lebih baik untuk alam sekitar.

Pembuatan biosensor menggunakan lampu inframerah

Thu, 18 Jun 2026 04:48:04 +0800

Dalam proses pembuatan wafer, penggunaan biosensor tidak membenarkan berlakunya perubahan suhu yang ketara. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan boleh mengubah lebar garisan pada wafer, menjejaskan kepekaan alat pengesan tersebut, dan seterusnya merosakkan hasil pengeluaran. Kami telah mencipta lampu inframerah khas untuk mengekalkan suhu pada tahap yang stabil, sepanjang masa.

Apa yang penting ialah cara kita mengendalikan proses pemanasan ini. Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang dilindungi oleh lapisan kuarsa, agar haba dapat disalurkan dengan cepat dan tanpa gangguan. Kekonsistenan suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, seperti yang ditunjukkan melalui pengukuran secara langsung. Ketepatan hasil pengeluaran dari satu kitaran ke kitaran seterusnya adalah sekitar ±0.2°C, jadi profil pemanasan tidak akan berubah. Lampu-lampu ini digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan jumlah zarah debu semasa operasi adalah sifar. Prestasi sistem tetap stabil pada tahap 1% selepas 5,000 jam operasi, manakala masa tindak balas terhadap perubahan suhu adalah kurang dari 2 saat – cukup cepat untuk memastikan kawalan suhu yang tepat.