PECVD verwarming infraroodemitter

Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800

Op de productielijn is thermische afwijking tijdens het drogen van het wafer of het verhitten van de fotoresist niet alleen schadelijk voor de productiecapaciteit. Het kan ook leiden tot afwijkingen in de belangrijkste dimensies van het product en daardoor tot een lagere opbrengst. Er is behoefte aan warmte die snel wordt toegepast, stabiel blijft en tegelijkertijd zuiver blijft – shift na shift.

Onze PECVD-verwarmingsemitter gebruiken kortegolflengte-energie om snel een thermische reactie te veroorzaken. Hierdoor blijft de temperatuur over het hele oppervlak van het wafer binnen ±0,1°C. Quartzomhulsels en speciaal ontworpen filamenten zorgen ervoor dat er geen deeltjes worden gegenereerd, zodat u zich in een schone ruimte van klasse 1–100 bevindt. De uitgangstemperatuur blijft gedurende meer dan 5.000 uur stabiel, met minder dan 5% afwijking in intensiteit. Hierdoor blijft de thermische controle consistent. Het systeem past gemakkelijk in bestaande PECVD- en thermische procesmodules. Er zijn standaard spanningsopties beschikbaar en het apparaat heeft een compact formaat, zodat het geen problemen veroorzaakt in de lay-out van de apparatuur.

PECVD on Master Infrared Heating Systems

PECVD verwarming infraroodemitter