Emissor infravermelho para aquecimento em PECVD

Fri, 26 Jun 2026 05:38:06 +0800

Na linha de produção, a deriva térmica durante o processo de secagem dos wafers não é apenas um fator que prejudica a produtividade. Ela também afeta as dimensões críticas dos wafers e reduz sua produtividade. É necessário que o calor seja aplicado de maneira rápida e constante, mantendo-se estável de turno em turno.

Nossos emissores infravermelhos para aquecimento em PECVD utilizam energia de onda curta para garantir uma resposta térmica rápida, com uniformidade dentro de ±0,1°C em toda a janela de processo. Os invólucros de quartzo e os filamentos projetados com precisão evitam a geração de partículas, mantendo assim o ambiente dentro das condições exigidas pela classe de sala limpa 1–100. A saída de calor permanece estável por mais de 5.000 horas, com menos de 5% de variação na intensidade do calor, garantindo assim a repetibilidade dos resultados. O sistema pode ser integrado diretamente aos módulos de PECVD e de processamento térmico existentes, com opções de tensão padrão e um tamanho compacto que não interfere no layout da infraestrutura.

PECVD on Master Infrared Heating Systems

Emissor infravermelho para aquecimento em PECVD