PECVD 가열용 적외선 방사체

팹에서는 포토레지스트를 건조시키거나 웨이퍼를 말리는 과정에서 발생하는 열 변동이 단순히 생산 속도를 저하시키는 문제에 그치지 않습니다. 이러한 열 변동은 웨이퍼의 치수를 변화시키고 수율을 떨어뜨립니다. 따라서 빠르게 열을 전달하면서도 일정한 온도를 유지할 수 있는 시...