Přestaňte zahřívat stěny stroje (a začněte sušit vafry efektivněji) Pokud jste někdy strávili čas v prostředí zařízení na sušení polovodičů, víte,...

Čištění MEMS senzorů pomocí infračerveného záření Pokud jste někdy pracovali s MEMS senzory, víte, jaký problém představuje sušení destiček. Stačí...

V prostředí výroby je chování fotografického rezistu přímo spojeno s tepelným profilem – zejména během procesů měkkého a tvrdého zahřívání. I několik...

Na lithografické podlaze vychází wafer z posledního oplachu a začíná odpočet. Konvenční sušení zanechává za sebou vodní skvrny, tenké filmy a...