Di lantai produksi, perubahan suhu selama proses pengeringan wafer atau pemanasan fotoresist bukan hanya menghambat kelancaran proses produksi, tetapi juga menyebabkan perubahan pada dimensi-dimensi kritis dari wafer tersebut, sehingga mempengaruhi tingkat keberhasilan produksi. Diperlukan panas yang dapat diberikan secara cepat, konsisten, dan bersih—baik dari satu siklus ke siklus berikutnya.
Emiter inframerah yang digunakan dalam sistem PECVD kami menggunakan energi gelombang pendek untuk memberikan respons termal yang cepat. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, dengan variasi suhu sebesar ±0,1°C selama proses berlangsung. Lapisan kuarsa dan filamen yang dirancang khusus membantu mencegah munculnya partikel-partikel pengganggu, sehingga lingkungan di dalam ruang bersih tetap terjaga pada kelas 1–100. Output panas tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan variasi intensitas panas kurang dari 5%, sehingga kondisi termal tetap konsisten. Sistem ini dapat digunakan langsung pada modul PECVD dan proses termal yang sudah ada, dengan opsi tegangan standar dan ukuran yang kompak, sehingga tidak mengganggu tata letak peralatan lainnya.
Dalam proses pengeringan dan pembersihan wafer, emiter ini membantu proses desorpsi tanpa adanya keterlambatan termal, sehingga mengurangi waktu proses sekaligus menjaga kelembapan permukaan wafer tetap rendah. Dalam proses litografi, emiter ini membantu menciptakan kondisi suhu yang stabil, sehingga profil fotoresist dan keseragaman CD tetap terjaga. Dalam proses pembungkusan, emiter ini memungkinkan proses pengerasan bahan penutup wafer berlangsung secara cepat dan merata, sehingga waktu yang diperlukan untuk proses tersebut berkurang, tanpa merusak daya rekat bahan-bahan tersebut.
Berkat adanya sistem elektronik yang efisien dalam mengontrol energi, konsumsi listrik menjadi lebih rendah dibandingkan heater jenis resistif. Selain itu, interval pemeliharaan juga menjadi lebih lama, karena tidak ada filamen panas yang terpapar gas-gas proses.
Yang perlu diperhatikan saat pemasangan adalah kesesuaian antara geometri reflektor dan sistem kontrol termal alat tersebut. Kami menyediakan peta kalibrasi untuk berbagai konfigurasi ruang proses yang umum digunakan. Jika Anda beralih dari pola gelombang sedang ke pola gelombang pendek, diperlukan waktu penyesuaian suhu yang sedikit lebih lama. Pastikan posisi sensor sesuai dengan pola termal yang kami sediakan. Gunakan perangkat pemasangan yang cocok untuk ruang bersih, dan pastikan saluran gas juga sesuai, agar tidak terjadi kondensasi di antarmuka jendela ruang proses.