Di bilik pengeluaran, perubahan suhu yang berlaku secara tiba-tiba merupakan faktor yang boleh merosakkan kualiti produk, namun ia tidak dapat dilihat dengan jelas. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist boleh menyebabkan perubahan pada kedudukan cakera optik. Jika masih ada kelembapan selepas proses pembersihan, ia akan menyebabkan masalah mikrobridging. Dalam proses pembungkusan pula, ketidakseragaman suhu boleh menyebabkan perubahan bentuk dan menjejaskan kualiti produk. Oleh itu, diperlukan sistem pemanasan yang stabil, di mana suhu dapat dikawal dengan baik dalam suasana yang telah ditetapkan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kita perlu menggunakan lampu pemanasan yang mampu menghasilkan suhu yang konsisten, serta memastikan proses pembersihan dilakukan dengan sempurna. Unsur halogen berfrekuensi tinggi membolehkan pemanasan yang cepat dan tepat, sambil memastikan suhu tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan. Komponen kuarsa dan peralatan yang kurang menghasilkan gas membantu mengelakkan kehadiran zarah-zarah yang boleh merosakkan produk, sekaligus memastikan persekitaran di dalam bilik bersih berada pada tahap Class 1–100. Sistem ini juga mampu mengekalkan suhu yang ditetapkan, walaupun dalam suasana nitrogen atau udara kering, agar kelembapan dan oksigen tidak masuk ke dalam sistem. Sistem maklum balas yang terintegrasi pula memastikan profil suhu tetap stabil dari satu sesi ke sesi yang lain, serta membolehkan rekod yang boleh dijejaki untuk tujuan kawalan kualiti.
Mengapa ia berkesan
Lampu ini sangat berguna di mana-mana tempat di mana ketepatan suhu sangat penting, seperti proses pengeringan wafer selepas pembersihan, proses pemanasan bahan fotoresist sebelum proses litografi, serta proses pembungkusan bahan komposit. Dengan menggunakan lampu ini, masa yang diperlukan untuk proses pemanasan menjadi lebih singkat, penggunaan tenaga juga berkurangan, dan jumlah wafer yang rosak akibat masalah tertentu juga berkurangan. Proses pengeluaran menjadi lebih efisien kerana lengkung suhu yang dihasilkan oleh lampu ini adalah sama setiap kali proses dilakukan, tanpa sebarang perubahan. Kawalan suhu yang stabil juga membantu mengelakkan oksidasi permukaan wafer dan pencemaran, sekaligus meningkatkan kualiti produk.
Butiran praktikal yang perlu dipertimbangkan
Semasa pemasangan, perlu pastikan antaramuka sistem penyingkiran gas dan sistem pengudaraan sesuai, serta lampu tersebut terpisah daripada getaran yang boleh mempengaruhi kualiti wafer. Selepas mengganti lampu, perlu tunggu sebentar agar suhu kembali stabil sebelum melakukan kalibrasi. Jadualkan penyelenggaraan lampu mengikut jangka hayatnya, agar tidak berlaku gangguan dalam proses pengeluaran. Pastikan juga bekalan gas yang digunakan memenuhi spesifikasi yang ditetapkan untuk proses pengeluaran.