Di bilik proses pembuatan cip, perubahan suhu semasa proses pemanasan bahan fotorezist atau pengeringan wafer bukan sahaja mengurangkan kelajuan pengeluaran, tetapi juga menyebabkan perubahan pada dimensi penting komponen cip tersebut, seterusnya menurunkan kadar pengeluaran yang berhasil. Anda memerlukan sumber haba yang dapat memberikan panas dengan cepat, kekal stabil, dan bebas daripada zarah-zarah berbahaya—sepanjang proses berlangsung.
Pengeluarnya yang menggunakan teknologi inframerah membolehkan tindak balas haba yang cepat, dengan ketepatan suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Lapisan kuarsa dan filamen khusus digunakan untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah berbahaya, agar suasana di dalam bilik bersih tetap terjaga. Prestasi sistem ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti haba kurang dari 5%, sehingga hasil prosesnya dapat dipercayai. Sistem ini boleh disambungkan terus ke modul PECVD dan modul proses termal yang sedia ada, dengan pilihan voltan standard serta saiz yang kompak, tanpa mengganggu susunan peralatan yang ada.
Dalam proses pengeringan dan pembersihan wafer, pengeluarnya membantu proses desorpsi tanpa berlaku kelewatan haba, sekaligus memendekkan masa proses sambil memastikan permukaan wafer tetap kering. Dalam proses litografi, ia membantu mengawal suhu dengan tepat, sehingga profil fotorezist dan ketepatan dimensi komponen cip dapat dipertahankan. Dalam proses pembungkusan pula, ia membantu proses pengeringan bahan pelindung dengan cepat dan seragam, sekaligus memendekkan masa yang diperlukan untuk proses tersebut, tanpa merosakkan sifat melekat bahan-bahan tersebut.
Dengan adanya elektronik penggerak yang efisien, penggunaan tenaga menjadi lebih rendah berbanding dengan pemanas jenis resistif. Selain itu, jarak penyelenggaraan juga dapat diperpanjang kerana tiada filamen yang terdedah kepada gas-gas proses.
Apa yang penting semasa pemasangan adalah memastikan geometri reflektor dan sistem kawalan suhu alat sesuai antara satu sama lain. Kami menyediakan peta kalibrasi untuk konfigurasi bilik proses yang biasa digunakan. Apabila anda beralih dari gelombang sederhana ke gelombang pendek, pastikan masa pemanasan mencukupi untuk mencapai suhu yang diinginkan. Pastikan juga kedudukan sensor sepadan dengan profil suhu yang disediakan. Gunakan peralatan pemasangan yang sesuai untuk bilik bersih, dan pastikan saluran gas juga sesuai, agar tidak berlaku pengumpulan wap air di antara komponen-komponen tersebut.