Op de productielijn is thermische afwijking tijdens het drogen van het wafer of het verhitten van de fotoresist niet alleen schadelijk voor de productiecapaciteit. Het kan ook leiden tot afwijkingen in de belangrijkste dimensies van het product en daardoor tot een lagere opbrengst. Er is behoefte aan warmte die snel wordt toegepast, stabiel blijft en tegelijkertijd zuiver blijft – shift na shift.
Onze PECVD-verwarmingsemitter gebruiken kortegolflengte-energie om snel een thermische reactie te veroorzaken. Hierdoor blijft de temperatuur over het hele oppervlak van het wafer binnen ±0,1°C. Quartzomhulsels en speciaal ontworpen filamenten zorgen ervoor dat er geen deeltjes worden gegenereerd, zodat u zich in een schone ruimte van klasse 1–100 bevindt. De uitgangstemperatuur blijft gedurende meer dan 5.000 uur stabiel, met minder dan 5% afwijking in intensiteit. Hierdoor blijft de thermische controle consistent. Het systeem past gemakkelijk in bestaande PECVD- en thermische procesmodules. Er zijn standaard spanningsopties beschikbaar en het apparaat heeft een compact formaat, zodat het geen problemen veroorzaakt in de lay-out van de apparatuur.
Bij het drogen en reinigen van het wafer zorgen de emitters voor een snelle desorptie, zonder thermische vertragingen. Hierdoor wordt de cyclustijd verkort, terwijl de oppervlaktedruppels op het wafer worden voorkomen. Bij lithografie zorgen ze voor een nauwkeurige temperatuurregeling, waardoor de profielen van de fotoresist en de uniformiteit van het oppervlak stabiel blijven. Bij het pakken van producten zorgen ze voor een snelle en uniforme droging van de encapsulanten en ondervullingen. Hierdoor kan de tijd die het product in de oven moet blijven, worden verkort, zonder dat de hechtingssfeer wordt aangetast.
In combinatie met energie-efficiënte besturingselektronica is de energieverbruik lager vergeleken met resistieve verwarmers. Bovendien zijn de onderhoudsintervallen langer, omdat er geen hete filamenten zijn die blootgesteld worden aan procesgassen.
Wat belangrijk is bij de installatie: optimale prestaties worden bereikt door de geometrie van de reflectoren en de thermostatische regeling van het apparaat op elkaar af te stemmen. Wij leveren kalibratiemapjes voor veelvoorkomende chamberconfiguraties. Als u overstapt van mediumgolf naar kortegolflengte-energie, moet u rekening houden met een iets langere opwarmtijd tot het gewenste temperatuurniveau. Zorg er ook voor dat de plaatsing van de sensoren overeenkomt met het door ons geproduceerde thermische profiel. Gebruik montagemateriaal dat geschikt is voor een schone ruimte, en controleer of de gaskleppen compatibel zijn, zodat er geen condensvorming optreedt op de contactpunten tussen de componenten.