壁を加熱するのをやめて、ウエハーを乾燥させましょう 半導体乾燥装置の周りで作業したことがある人なら、その状況がどんなものかわかるでしょう。チャンバーを開けると、すぐに熱気が顔に当たります。ウエハーだけでなく、装置の壁自体も高温になっています。 これは無駄なことです。一般的なヒーターはエネルギーをあ...

IRを利用したMEMSの乾燥処理 MEMSセンサーの製造に携わったことがある人なら、ウェーハの乾燥処理がいかに面倒かを知っているでしょう。わずかな水分やイオン汚染があっただけで、そのロット全体が廃棄されてしまいます。長年にわたり、対流式オーブンを使ってきましたが、正直なところ、ウェーハを乾燥させる...

ファブの現場において、フォトレジストの挙動は、特にソフトベイクやハードベイクの際の熱的条件に大きく左右されます。ウェーハ全体での加熱が均一でなければ、端部にビードができたり、線幅が変わったりし、結果として歩留まりが低下します。ランプは単なる付属品ではなく、実際に熱制御が行われる重要な要素です。 こ...

アウトリソグラフィフロアでは、ウェハーが最終すすぎから出て時計が動き始める。従来の乾燥方法では、水跡、薄膜、そして目に見えない微粒子が残り、それがフォトレジストの欠陥として現れる。300mmファブでClass 1のクリーンネスを維持している場合、これはリスクではない。歩留まりがそのまま損失になる。...