벽을 가열하는 것을 그만두고, 웨이퍼를 건조시키는 데에만 집중하세요. 반도체 건조 장비를 다룬 경험이 있다면 그 느낌을 잘 알 것입니다. 챔버를 열면 열기가 바로 얼굴로 달려듭니다. 웨이퍼뿐만 아니라 장비의 벽면도 매우 뜨거워집니다. 이건 낭비입니다. 일반적인 히터들...

IR을 이용한 MEMS 센서의 건조 처리 만약 MEMS 센서를 다룬 경험이 있다면, 웨이퍼를 건조하는 데 있어서 겪는 어려움을 잘 알고 있을 것입니다. 아주 작은 물방울이나 이온 오염만 있어도 전체 웨이퍼가 버려지게 됩니다. 오랫동안 우리는 대류식 오븐을 사용해왔지만...

생산 현장에서는 포토레지스트의 성능이 열 분포에 의해 결정됩니다. 특히 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서 그렇습니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 약간의 온도 차이가 생기거나 불균일한 가열이 발생하면, 웨이퍼의 가장자리에 문제가 생기고, 선의 굵기도 변하며, 최종 제품의...

리소그래피 작업장에서는 웨이퍼가 최종 린스 후에 나와서 타이머가 시작된다. 기존 건조 방식은 눈에 보이지 않는 워터마크, 박막, 입자를 남기며, 이는 포토레지스트 상의 결함으로 나타난다. Class 1 청정도를 유지하는 300mm 팹에서는 이러한 위험이 곧 수율 손실...