停止让墙壁过热吧（开始真正地烘干晶圆吧） 如果你曾经接触过半导体烘干设备，就会明白那种情况。当你打开设备舱门时，强烈的热量会立刻扑面而来。不仅晶圆会被烫伤，就连设备的墙壁也会变得极其炽热。 这其实是一种浪费。普通的加热器会将能量向各个方向释放，结果就是让昂贵的设备外壳变成一个巨大的散热体。这样一来...

利用红外线技术清洁MEMS传感器 如果你曾经从事过MEMS传感器的生产工作，那你就知道晶圆干燥这一环节有多麻烦。哪怕只有一个小水滴或少量离子污染，整批产品都报废了。多年来，我们一直依赖对流式烤箱来干燥晶圆，但说实话，为了干燥一个晶圆而加热整个炉腔，实在是极大的能源浪费。 因此，我们转而使用短波红外...

在晶圆制造过程中，刚经过清洗步骤的晶圆其实还远未完成加工。水渍、微粒以及干燥过程中的热应力都可能影响晶圆的良率，甚至在进入下一步加工之前就导致问题出现。真正的挑战并非仅仅去除水分，而是要能够精确控制晶圆表面的状态以及温度。 从技术层面来看，关键在于： 我们采用可控且快速的能量供应方式来进行干燥处理...

在制造车间里，光刻胶的性能取决于其所在环境中的温度分布——尤其是在进行软烘和硬烘处理时。如果晶圆上的加热不均匀，哪怕只有几度的差异，也会导致边缘出现缺陷、线宽发生变化，进而影响产品的良率。灯泡并非普通的配件，它实际上就是实现温度控制的中心部件。 关键在于确保晶圆表面的温度均匀性，理想情况下应保持在...

Out on the lithography floor, the wafer comes off the final rinse and the clock starts. Conventional drying leaves behind water marks, thin films,...