在制造工厂中，光刻胶烘烤或晶圆干燥过程中产生的热量波动不仅会降低生产效率，还会导致关键尺寸发生变化，进而影响成品率。因此，需要一种能够快速加热、保持温度稳定且无杂质的加热方式——而且这种效果需要在多个生产批次中都保持一致。
我们的PECVD加热红外发射器采用短波能量来实现快速加热，使得整个工艺过程中的温度均匀性保持在±0.1°C以内。石英外壳以及经过特殊设计的灯丝结构则可以确保不会产生任何颗粒物，从而让工作环境始终处于1级到100级的洁净度标准之下。该系统的输出功率在5,000小时以上的时间里依然保持稳定，强度变化幅度小于5%，因此其加热效果具有可重复性。该系统可直接安装在现有的PECVD及热处理设备上，支持标准电压输入，且体积小巧，不会干扰设备的布局。
在晶圆干燥和清洁过程中，这些发射器可以快速实现脱附作用，同时避免因热量滞后而导致的效率下降，从而缩短处理时间，同时还能防止晶圆表面出现水分。在光刻过程中，它们能够精确控制温度，从而保证光刻胶的均匀性以及晶圆尺寸的稳定性。在封装过程中，它们则能快速、均匀地固化封装材料，从而减少在烤箱中的停留时间，同时不会影响材料的粘附性。
由于采用了高效的驱动电路，与传统的电阻式加热器相比，该系统的能耗更低。此外，由于没有裸露的发热元件，因此无需频繁维护。
在安装时，要确保反射器的几何结构与设备的温度控制系统相匹配，这样才能获得最佳性能。我们为常见的反应室配置提供了校准参数。如果从中波加热切换到短波加热，那么达到设定温度所需的时间会稍长一些，因此需确保传感器位置与我们所提供的温度曲线相吻合。此外，还需要使用适合洁净室环境的安装硬件，同时还要确保气体管道的兼容性，以避免在窗口处形成冷凝水。